Coppe UFRJ 50

/Reitor se reúne com diretores da Coppe e visita laboratórios

O reitor da UFRJ, Roberto Leher, e a vice-reitora, Denise Nascimento, visitaram a Coppe nessa sexta-feira, 11 de setembro. Acompanhados pelo diretor da Coppe, professor Edson Watanabe, o vice-diretor, professor Romildo Toledo, eles visitaram o Laboratório de Ensaios não Destrutivos, Corrosão e Soldagem (LNDC) e o Laboratório de Engenharia de Polimerização (Engepol), onde foram recepcionados, respectivamente, pelos professores Oscar Rosa Mattos e José Carlos Pinto (também diretor de Assuntos Acadêmicos).

Em seguida, se reuniram com a diretoria da Coppe, na sala China-Brasil, onde foi discutida a participação da Coppe em questões emergenciais para a universidade, como melhorias na infraestrutura e formas de reduzir o elevado consumo de água e energia. Ficou acertado ainda que a Coppe e a Reitoria organizarão um ciclo de debates acerca dos desafios atuais do país e também da universidade, no intuito de reafirmá-la como instituição de excelência, democrática e socialmente referenciada.

Outras questões de interesse de toda a comunidade também foram debatidas, como, por exemplo, o elevado número de professores "aposentáveis", ou seja, aqueles cujas idades lhes permitam aposentar-se nos próximos anos. De acordo com professor Watanabe, dos 350 docentes da Coppe, cerca de 100 atingirão tempo de serviço mínimo para aposentadoria, em um futuro próximo.
 

Na avaliação do professor Watanabe, a primeira visita do reitor à Coppe foi muito proveitosa, e dela poderão se desdobrar grupos de trabalho, para dar andamento às questões discutidas.

Também participaram do encontro com o reitor, os professores Fernando Rochinha, diretor de Tecnologia e Inovação; Luiz Pinguelli, diretor de Relações Institucionais, Ericksson Almendra, diretor de Planejamento, Administração e Desenvolvimento Institucional, e os engenheiros Fernando Peregrino, diretor de Orçamento e Controle, e Fernando Sepúlveda, diretor adjunto de Planejamento, Administração e Desenvolvimento Institucional.